真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工技術，是表面工程技術領域的重要組成部分；

起源于20世紀30年代，直到80年代才形成工業化大規模生產，廣泛應用于電子、裝潢裝飾、通訊、照明等工業領域。

是在真空環境下，金屬或金屬氧化物變成氣態原子或分子，沉積在金屬或非金屬表面而形成。 

被譽為最具發展前途的重要技術之一，并在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。

真空的作用

1. 減少蒸發分子跟殘余氣體分子的碰撞

2. 抑制它們之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、污染小、成本低、裝飾效果好、金屬感強。